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Mentor.Graphics.Calibre.2012.4 x64 Calibre.2011.2 x32+x64
  • 软件大小:965 MB
  • 推荐星级:
  • 更新时间:2013-06-01 20:01:19
  • 软件类别:国外软件 / 电子电路
  • 软件语言:英文
  • 授权方式:商业版
  • 联系方式:ygqh@21cn.com
  • 官方主页:Home Page
  • QQ、手机:没有预览图片
  • 运行环境:Linux/

软件简介

Mentor.Graphics.Calibre.2012.4 x64 Calibre.2011.2 x32+x64 Linux

Calibre 是业界唯一完整的实体验証与次波长解决方案,Calibre实体验証套装工具,包括Calibre DRC与Calibre LVS在內,可確保积体电路实体设计遵守代工製造规格要求,元件功能也符合原设计规格。针对次波长设计,Calibre则利用阶层式验証引擎提供一组套装工具,可以新增或建立模型,並且验証四种主要的解析度强化技术,分別是光学製程修正(OPC)、相位移光罩(PSM)、Scattering Bar和偏轴照明(OAI)技术。身为实体验証工具市场领导者,Calibre已成为许多厂商採用標准,包括全球最大的整合元件製造商、晶圆代工厂商以及深次微米元件库供应商。
Mentor Graphics Calibre xRC and Calibre xL Tools 2010 Linux Released.
WILSONVILLE, Ore., Feb 14, 2010 - Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) today announced the availability of Calibre® xRC™ and Calibre xL rule decks for TSMC’s advanced 65nm process node. These rule decks provide advanced modeling capabilities including process sensitivity, and self and mutual inductance. Calibre now provides a solution for many types of integrated circuit designs including analog, digital, mixed signal, and memory.

For nanometer designs, accurate simulation and analysis requires more than traditional resistance and capacitance. Designers need a post-layout silicon model that incorporates inductance, process sensitivity effects, and efficient accounting of effects not captured in the device model. Using Calibre xRC and Calibre xL in the design flow helps ensure that designers have all the data they need to obtain successful first pass silicon.

“We have developed testing methodology for parasitic extraction tools to make sure we deliver accurate solutions to our customers. Calibre xRC and Calibre xL performed well in our internal tests and offers advanced modeling capabilities to capture process variation effects that are necessary for 65nm,” said Ed Wan, senior director of design services marketing, TSMC.

“Delivering accurate, complete parasitic models is an integral part of Calibre’s overall objective to improve silicon yield,” said Joe Sawicki, vice president and general manager, Design to Silicon Division, Mentor Graphics. “When coupled with Calibre LVS for device modeling, Calibre xRC and Calibre xL helps designers address parametric yield issues by accurately capturing process variation effects in device and interconnect models. Additionally, customers now have access to a full complement of inductance models with self, mutual and skin effect modeling that is necessary for today’s high frequency interconnect.”

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